光刻機行業發展趨勢

　　光刻機分為無掩模光刻機和有掩模光刻機。極紫外光刻將最有可能成為主流的光刻技術，2019年Nikon總資產為100.59百億日元，以下是光刻機行業發展趨勢分析。

　　光刻機被譽為人類20世紀的發明奇蹟之一，是集成電路產業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。光刻機行業分析指出，光刻機行業格局為三分天下，主要由是荷蘭ASML、日本Nikon及日本canon主宰。

　　光刻機行業發展趨勢指出，我國的光刻機只能夠提供90納米的光刻技術。光刻技術達不到晶片的要求，只能夠作為研究過程中的紀念品。並且，由於西方瓦森納協議的限制，我國只能買到報價僅1億人民幣的ASML中低產品。目前光刻機主要可以分為IC前道製造光刻機(市場主流)、IC後道先進封裝光刻機、LED/MEMS/PowerDevices製造用光刻機以及面板光刻機。其中IC前道光刻機需求量和價值量都最高，但是技術難度最大。而封裝光刻機對於光刻的精度要求低於前道光刻要求，面板光刻機主要用在薄膜電晶體製造中，與IC前道光刻機相比技術難度更低。

　　IC前道光刻機技術最為複雜，光刻工藝是IC製造的核心環節也是占用時間比最大的步驟，光刻機是目前晶圓製造產線中成本最高的半導體設備。光刻設備約占晶圓生產線設備成本27%，光刻工藝占晶片製造時間40%-50%。高精度EUV光刻機的使用將使die和wafer的成本進一步減小，但是設備本身成本也會增長。

　　光刻設備量價齊升帶動光刻設備市場不斷增長。一方面，隨著晶片製程的不斷升級，IC前道光刻機價格不斷攀升。目前最先進的EUV設備在2018年單台平均售價高達1.04億歐元，較2017年單台平均售價增長4%。另一方面，晶圓尺寸變大和製程縮小將使產線所需的設備數量加大，性能要求變高。12寸晶圓產線中所需的光刻機數量相較於8寸晶圓產線將進一步上升。同時預計2020年隨著半導體產線得到持續擴產，光刻機需求也將進一步加大。

　　ASML、佳能以及尼康是光刻機主要供應商，其中ASML在高端市場一家獨大並且壟斷EUV光刻機。從光刻機總體出貨量來看(含非IC前道光刻機)，目前全球光刻機出貨量99%集中在ASML，尼康和佳能。其中ASML份額最高，達到67.3%，且壟斷了高端EUV光刻機市場。光刻機行業發展趨勢指出，ASML技術先進離不開高投入，其研發費用率始終維持在15%-20%，遠高於Nikon和Canon。

　　目前，產線中光刻機主要依賴於進口，以國內產線長江存儲為例，其光刻機全部來自於ASML和佳能。其中Arf光刻機全部由ASML供應，佳能主要供應技術難度相對較低的g線、i線光刻機及少部分KrF光刻機。中國企業技術目前與國外廠商仍有較大差距，不過上海微電子作為國內光刻機領軍者，已經實現90nm製程，未來有望逐步實現技術突破。

　　綜合來看，我國光刻機行業發展較晚，若想推動光刻機行業高速發展，要採取產業鏈、創新鏈、金融鏈有效協同的新模式，專項與重點區域產業發展規劃協同布局，主動引導地方和社會的產業投資跟進支持，有效推動專項成果產業化，扶植企業做大做強，形成產業規模，提高整體產業實力，以上便是光刻機行業發展趨勢分析所有內容了。

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