光刻機行業現狀分析

　　光刻機分為無掩模光刻機和有掩模光刻機，是集成電路產業皇冠上的明珠，全球範圍內最先進的沉浸式光刻機也只有ASML、尼康和佳能三家能夠生產，以下是光刻機行業現狀分析。

　　光刻機被譽為人類20世紀的發明奇蹟之一，是集成電路產業皇冠上的明珠，研發的技術門檻和資金門檻非常高。光刻機行業分析指出，光刻機行業格局為三分天下，主要由是荷蘭ASML、日本Nikon及日本canon主宰。

　　光刻機行業現狀分析指出，2014-2020年ASML企業光刻機銷量不斷上升，2019年ASML企業光刻機銷量為224台，2020年銷量較2019年增加5台，2020年ASML企業光刻機銷量為229台。

　　2020年ASML企業ArFi機型光刻機銷量為82台，KrF機型光刻機銷量為65台，i-line光刻機銷量為34台，AriFdry機型光刻機銷量為22台，EUV光刻機銷量為26台。

　　ASML在技術更先進的EUV、ArFi、ArF機型市場占有率不斷提升，且遠大於Canon和Nikon。2019年ASML上述三種機型出貨量總計為101台，市場份額占比為78.29%，到2020年ASML出貨量增長到120台，市場份額約90%。Canon和Nikon在EUV、ArFi、ArF機型銷售量遠低於ASML，二者產品主要集中價值量更低的後道光刻機以及面板光刻機領域。

　　IC前道光刻機技術最為複雜，光刻工藝是IC製造的核心環節也是占用時間比最大的步驟，光刻機是目前晶圓製造產線中成本最高的半導體設備。光刻設備約占晶圓生產線設備成本27%，光刻工藝占晶片製造時間40%-50%。

　　目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭ASML，並已經占據了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場-最先進的EUV光刻機售價曾高達1億美元一台，且全球僅僅ASML能夠生產。Intel、台積電、三星都是它的股東，重金供養ASML，並且有技術人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻機都是買自ASML，格羅方德、聯電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。

　　光刻機行業現狀分析指出，中芯國際(SMIC)訂購的是最新型的使用EUV(極紫外線)技術的晶片製造機器光刻機，價值1.2億歐元，與其去年淨利潤1.264億美元大致相當。

　　長江存儲裝入193nm浸潤式光刻機，售價7200萬美元(約合人民幣4.6億元)，可用於14-20nm工藝。

　　華虹集團旗下上海華力集成電路製造有限公司裝入193nm雙級沉浸式光刻機，用於10nm級(14~20nm)晶圓生產。

　　如今，我國對於光刻機行業較為重視。其主要表現在對於整個IC產業鏈企業的政策優待以及對於半導體設備行業的相關規劃與推動。其主要表現在資金方面的補助和人才方面的培養，以及進出口，投融資方面的政策扶持，以上便是光刻機行業現狀分析所有內容了。