二次離子質譜儀是用來檢測材料的一種儀器,即是利用離子束把待分析的材料從表面濺射出來,然後再檢測出離子組分並進行質量分析,它是對微粒進行同位素分析的有力工具,但它不能直接分辨同量異位數和確認元素。下面進行二次離子質譜儀市場規模分析。
二次離子質譜儀,是最前沿的表面分析技術。二次離子質譜儀揭示了真正表面和近表面原子層的化學組成,其信息量也遠遠超過了簡單的元素分析,可以用於鑑定有機成分的分子結構。廣泛應用於微電子技術、化學技術、納米技術以及生命科學之中,它可以在數秒內對表面的局部區域進行掃描和分析,生成一個表面成分圖。
是利用質譜法分析初級離子入射靶面後,濺射產生的二次離子而獲取材料表面信息的一種方法。二次離子質譜可以分析包括氫在內的全部元素,並能給出同位素的信息、分析化合物組分和分子結構。二次離子質譜具有很高的靈敏度,可達到ppm甚至ppb的量級,還可以進行微區成分成像和深度剖面分析。
通過對二次離子質譜儀市場規模分析,用一次離子束轟擊表面,將樣品表面的原子濺射出來成為帶電的離子,然後用磁分析器或四極濾質器所組成的質譜儀分析離子的荷/質比,便可知道表面的成份;
非常靈敏的表面成份分析手段,對某些元素可達到ppm量級;但由於各種元素的二次離子差額值相差非常大,作定量分析非常困難。Hiden Analytical生產的SIMS Workstation通過SNMS可以做到很好的定量,SNMS分析樣品表面濺射出來的中性粒子(占到濺射出來的粒子總數的95%以上),用來做定量,誤差非常小。
通過對二次離子質譜儀市場規模分析,二次離子質譜儀在過去十幾年中已取得突破性進展。它的質量範圍展寬近一個數量級,商業化儀器的質量上限已從幾年前的100。達到現在的約10000。它廣泛使用解吸電離方法,包括快原子轟擊(FAB)、次級離子質譜儀(SIMS)和裂變碎片法等,這就允許檢測離子化的非揮發性化合物。
它成功地組合分離和分析技術,提供了全新的能力。它已用於生物和環境研究,來標征包括痕量成分在內的混合物組成、蛋白質結構測定、酶化學、光合作用和碳記年中。在化學分析領域之外,它已用於研究氣相酸度、鹼度和有機反應機制。以上便是二次離子質譜儀市場規模分析的所有內容了。
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