中國報告大廳發布的《2025-2030年中國半導體行業競爭格局及投資規劃深度研究分析報告》指出,2025年全球半導體產業持續面臨供應鏈重構壓力,核心設備國產化進程顯著加快。近期,國內微納光學領域企業蘇大維格宣布擬以不超過5.1億元現金收購常州維普不超過51%股權,目標通過控股方式強化在半導體量檢測設備領域的布局。標的公司主營光掩模缺陷檢測及晶圓缺陷檢測設備,其產品已進入頭部晶圓廠和掩膜版廠商的量產線,國產化率不足3%的行業現狀為技術突破提供了廣闊空間。蘇大維格表示,此次收購將直接對接雙方重疊的客戶資源,縮短半導體光刻機等核心產品的市場驗證周期。
半導體製造中,光掩模作為圖形轉移母版的精度直接影響晶片良率,其缺陷檢測技術長期被海外巨頭壟斷。常州維普的核心產品填補了國內高端檢測設備空白:其光掩模缺陷檢測設備已通過頭部企業產線驗證,而晶圓缺陷檢測設備則覆蓋12英寸先進位程需求。數據顯示,2024年全球半導體量測與檢測市場規模超100億美元,國產替代率每提升一個百分點即可釋放數億元市場空間。蘇大維格在公告中強調,通過整合常州維普的技術積累,將加速激光直寫光刻機等國產設備的產業化進程。
面對連續四年累計虧損6.27億元的壓力(2021-2024年歸母淨利潤分別為-3.5億、-2.79億、-0.46億、-0.58億),蘇大維格亟需通過戰略併購優化業務結構。2025年上半年公司雖實現營收9.82億元(同比+5.27%),但歸母淨利潤僅3066萬元,同比下降10.46%,扣非淨利更是下滑至1297萬元(降幅46.68%)。研發投入與市場費用的持續攀升加劇了盈利壓力。此次收購常州維普,既可藉助其在半導體設備領域的客戶網絡快速打開增量市場,也有望通過協同研發降低技術開發成本。
當前全球半導體檢測設備領域仍由應用材料、科磊等企業主導,國內廠商需突破高精度光學系統、算法模型等核心技術瓶頸。常州維普雖已實現頭部客戶導入,但其2024年營收規模尚未披露,市場占有率數據暫不明確。蘇大維格作為微納光學龍頭,在光刻膠材料與設備領域具備技術儲備,此次併購若成功將形成「材料-設備-檢測」產業鏈閉環,但需應對下游晶圓廠對國產設備穩定性的長期驗證壓力。
戰略協同下的機遇與風險並存
2025年半導體行業在政策支持和技術突破的雙重驅動下,國產替代正從基礎領域向高端裝備延伸。蘇大維格通過收購常州維普切入量檢測賽道,既符合其「強化半導體業務」的長期戰略,也面臨整合效率、技術疊代速度等多重考驗。若能有效協同雙方資源,有望在光掩模與晶圓缺陷檢測領域形成國產化標杆案例;反之則可能因市場拓展不及預期進一步加劇財務壓力。未來兩年將是觀察該併購案成敗的關鍵窗口期。
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