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2025年半導體設備品牌排行榜 最新半導體設備排名分享

2025-01-08 07:00:11報告大廳(www.chinabgao.com) 字號:T| T

中國報告大廳網的最新市場調研揭示了半導體設備行業的品牌影響力。2025年,半導體設備市場迎來了新的變化,各大品牌在產品質量、技術創新和市場占有率等方面展開了激烈的競爭。

在2025年半導體設備品牌排行榜中,各大品牌通過不斷的努力和創新,提升了自身的品牌價值和市場競爭力。這些品牌在半導體設備的生產和供應上占據了重要地位,不僅在國內市場有著廣泛的影響力,也在國際市場上逐漸嶄露頭角。2025年半導體設備品牌排行榜的詳細排名為ASML阿斯麥、AMAT應用材料、Lam Research、Tokyo Electron、KLA科磊、ASMI、上海微電子Smee、北方華創、中微AMEC、電科裝備CETC。

表1:2025年半導體設備十大品牌排行榜

排名品牌名稱企業名稱省份/地址
1ASML阿斯麥阿斯麥(上海)光刻設備科技有限公司上海市
2AMAT應用材料應用材料(中國)有限公司上海市
3Lam Research泛林半導體設備技術(上海)有限公司上海市
4Tokyo Electron東電電子(上海)有限公司上海市
5KLA科磊科磊半導體設備技術(上海)有限公司上海市
6ASMI先晶半導體設備(上海)有限公司上海市
7上海微電子Smee上海微電子裝備(集團)股份有限公司上海市
8北方華創北方華創科技集團股份有限公司北京市
9中微AMEC中微半導體設備(上海)股份有限公司上海市
10電科裝備CETC中電科電子裝備集團有限公司北京市

一、品牌簡介

(一)ASML阿斯麥

ASML創立於1984年,全球晶片光刻設備市場領導者,是全球最大的半導體光刻設備製造商之一,ASML於2000年推出TWINSCAN光刻機,2010年成功研發首台EUV光刻機,是當前唯一可以生產EUV光刻機的公司。ASML在全球10餘個國家設有60餘個辦公...

(二)AMAT應用材料

AMAT成立於1967年,以薄膜沉積設備起家,是全球極具影響力的半導體和顯示設備製造商之一,目前產品與服務已覆蓋原子層沉積、物理氣相沉積、化學氣相沉積、刻蝕、快速熱處理、離子注入、測量與檢測、清洗等生產步驟,AMAT於1984年進入國內,是第一家進入中國的...

(三)Lam Research

Lam Research創立於1980年美國,是全球領先的晶圓製造設備、技術和服務提供商,主營刻蝕設備、薄膜沉積設備和清洗設備,居於刻蝕設備行業領導地位,在納米級應用支持,化學,等離子和流體技術等領域建立了強大的競爭力,Lam Research於1994年...

(四)Tokyo Electron

TOKYO ELECTRON成立於1963年日本,是全球知名半導體製造設備、液晶顯示器製造設備提供商。主要產品涵蓋塗布/顯像設備、熱處理成膜設備、干法刻蝕設備、CVD、濕法清洗設備及測試設備,已在日本、美國、歐洲、韓國、中國等地都建立了自己的網點,在全球多...

(五)KLA科磊

KLA科磊由KLA和Tencor兩家公司於1997年合併而成,是全球領先的半導體檢測設備供應商,半導體前道量測設備領域影響力企業,產品貫穿前道工藝過程控制全流程,為半導體製造及相關行業提供良率管理和製程控制解決方案,1999年在國內設立第一個分公司,目前已...

(六)ASMI

ASM International創立於1968年荷蘭,以晶圓加工設備起家,全球知名半導體設備提供商,ALD設備居於行業前列,是高端薄膜沉積設備行業全球領導者,主要提供ALD、epi、PECVD、爐管等產品,在北美、歐洲、亞洲等地設有技術研發與製造中心,業...

(七)上海微電子Smee

SMEE成立於2002年,是國產半導體光刻設備領域佼佼者,主要致力於半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務,廣泛應用於集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等製造領域。

(八)北方華創

北方華創成立於2001年,深交所上市公司(股票代碼:002371),是國內領先的半導體裝備製造與服務商,旗下北方華創微電子主要提供刻蝕機、PVD、ALD、CVD、氧化/擴散爐、清洗機、氣體質量流量計等高端半導體工藝裝備及核心零部件,為半導體、新能源、新材料...

(九)中微AMEC

中微公司始於2004 年,2019 年於上交所上市(股票代碼:688012),是一家以中國為基地、面向全球的微觀加工高端設備公司,為集成電路和泛半導體行業提供高端設備和服務,國內刻蝕設備行業佼佼者,主要產品涵蓋刻蝕設備、MOCVD 設備、薄膜設備,服務遍布...

(十)電科裝備CETC

電科裝備成立於2013年,隸屬中國電子科技集團,具備集成電路局部成套和系統集成能力以及光伏太陽能產業鏈整線交鑰匙能力,已實現國產離子注入機28納米工藝製程全覆蓋,形成了以離子注入機、平坦化裝備(CMP)等為代表的微電子工藝設備研究開發與生產製造體系,涵蓋材...

二、品牌優勢

在任何領域的企業成功,專利信息和起草標準的重要性不容忽視。專利信息是企業創新的重要產物,它可以保護企業權益,提升企業競爭力;起草標準則是企業產品製造和服務領域的質量保障,有助於規範市場行為,提高行業基礎標準。

(七)上海微電子Smee

表2:專利信息

序號專利號/專利申請號專利名稱
1ZL201310747393.8一種調焦調平裝置
2ZL201410857409.5一種矽片邊緣保護裝置
3ZL201110241791.3一種步進光刻設備及光刻曝光方法

表3:專利信息

標準號標準名稱發布日期實施日期
GB/T 40577-2021集成電路製造設備術語2021-10-112022-05-01

(九)中微AMEC

表4:專利信息

序號專利號/專利申請號專利名稱
1ZL201210378282.X等離子體處理裝置及調節基片邊緣區域製程速率的方法

表5:專利信息

標準號標準名稱發布日期實施日期
GB/T 40577-2021集成電路製造設備術語2021-10-112022-05-01

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